喷涂区域： 镀膜靶材喷涂层 生产线
工作状态：镀膜靶材喷涂层
解决方案：等离子喷涂
喷涂材料：硅铝靶材
使用效果：各种合格靶材
应用领域：本公司采用等离子喷涂生产靶的方法,专业研发,生产和销售真空磁控溅射靶材,应用于玻璃镀膜(建筑玻璃和汽车玻璃)工业等行业,主要靶材包括:铬靶,钛靶,硅铝靶等,本公司可根据客户要求研发出能满足客户要求的各种靶材喷涂制造技术并提供:1,靶材等离子喷涂制粉设备交钥匙工程2,靶材等离子喷涂粉的选型,配比,制粉工艺
磁控溅射靶材
磁控溅射镀膜是一种新型的物理气相镀膜方式,较之较早点的蒸发镀膜方式,其很多方面的优势相当明显.作为一项已经发展的较为成熟的技术,磁控溅射已经被应用于许多领域.
磁控溅射原理：在被溅射的靶极(阴极)与阳极之间加一个正交磁场和电场,在高真空室中充入所需要的惰性气体(通常为Ar气),永久磁铁在靶材料表面形成250～350高斯的磁场,同高压电场组成正交电磁场.在电场的作用下,Ar气电 离成正离子和电子,靶上加有一定的负高压,从靶极发出的电子受磁场的作用与工作气体的电离几率增大,在阴极附近形成高密度的等离子体,Ar离子在洛仑兹力 的作用下加速飞向靶面,以很高的速度轰击靶面,使靶上被溅射出来的原子遵循动量转换原理以较高的动能脱离靶面飞向基片淀积成膜.磁控溅射一般分为二种:支流溅射和射频溅射,其中支流溅射设备原理简单,在溅射金属时,其速率也快.而射频溅射的使用范围更为广泛,除可溅射导电材料外, 也可溅射非导电的材料,同时还司进行反应溅射制备氧化物,氮化物和碳化物等化合物材料.若射频的频率提高后就成为微波等离子体溅射,目前常用的有电子回旋共振(ECR)型微波等离子体溅射.
磁控溅射镀膜靶材：
金属溅射镀膜靶材,合金溅射镀膜靶材,陶瓷溅射镀膜靶材,硼化物陶瓷溅射靶材,碳化物陶瓷溅射 靶材,氟化物陶瓷溅射靶材 ,氮化物陶瓷溅射靶材 ,氧化物陶瓷靶材,硒化物陶瓷溅射靶材,硅化物陶瓷溅射靶材 ,硫化物陶瓷溅射靶材 ,碲化物陶瓷溅射靶材 ,其他陶瓷靶材,掺铬一氧化硅陶瓷靶材(Cr-SiO),磷化铟靶材(InP),砷化铅靶材(PbAs),砷化铟靶材(InAs).
高纯高密度建设靶材有：
溅射靶材(纯度:99.9%-99.999%)
金属靶材：
镍靶,Ni,钛靶,Ti,锌靶,Zn,铬靶,Cr,镁靶,Mg,铌靶,Nb,锡靶,Sn,铝靶,Al,铟靶,In,铁靶,Fe,锆铝靶,ZrAl,钛铝靶,TiAl,锆靶,Zr,铝硅靶,AlSi,硅靶,Si,铜靶Cu,钽靶T,a,锗靶,Ge,银靶,Ag,钴靶,Co,金靶,Au,钆靶,Gd,镧靶,La,钇靶,Y,铈靶,Ce,钨靶,w,不锈钢靶,镍铬靶,NiCr,铪靶,Hf,钼靶,Mo,铁镍靶,FeNi,钨靶,W等.
设备推荐
解决方案：等离子喷涂配套设备/靶材等离子喷涂粉的选型,配比,制粉工艺
喷涂材料：技术规划:达到或超出设计要求
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